机译:喷墨头,喷墨头制造方法,微阵列制造装置,制造方法,微阵列制造方法,喷墨记录装置,制造方法,制造厂,喷墨制造方法,颜色,制造方法滤光片的制造方法,电场发光板的制造装置,其制造方法以及电场发光板的制造方法
公开/公告号JP2003231251A
专利类型
公开/公告日2003-08-19
原文格式PDF
申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;
申请/专利号JP20020030766
申请日2002-02-07
分类号B41J2/045;B41J2/01;B41J2/055;B41J2/16;G02B5/20;G02F1/1335;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 00:20:00