首页> 外国专利> Gallium arsenide antimonide (GaAsSb)/Indium phosphide (InP) heterojunction bipolar transistor (HBT) having reduced tunneling probability

Gallium arsenide antimonide (GaAsSb)/Indium phosphide (InP) heterojunction bipolar transistor (HBT) having reduced tunneling probability

机译:砷化镓锑化镓(GaAsSb)/磷化铟(InP)异质结双极晶体管(HBT)具有降低的隧穿概率

摘要

A heterojunction bipolar transistor (HBT), comprises a collector formed over a substrate, a base formed over the collector, an emitter formed over the base, and a tunneling suppression layer between the collector and the base, the tunneling suppression layer fabricated from a material that is different from a material of the base and that has an electron affinity equal to or greater than an electron affinity of the material of the base.
机译:异质结双极晶体管(HBT),包括在衬底上方形成的集电极,在集电极上方形成的基极,在基极上方形成的发射极以及在集电极和基极之间的隧穿抑制层,由材料制成的隧穿抑制层与基体材料不同,并且其电子亲和力等于或大于基体材料的电子亲和力。

著录项

  • 公开/公告号US2005218428A1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-10-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANDEEP BAHL;NICOLAS J. MOLL;

    申请/专利号US20040817514

  • 发明设计人 SANDEEP BAHL;NICOLAS J. MOLL;

    申请日2004-04-02

  • 分类号H01L31/0328;H01L21/8249;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 22:22:43

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号