机译:光学成像装置的设计方法,涉及当表示透镜的波前像差的基函数值超过其上限时,对数学模型的自由参数进行优化的方法,其中,模型用于设计透镜
公开/公告号DE102004006262A1
专利类型
公开/公告日2005-09-01
原文格式PDF
申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;
申请/专利号DE20041006262
发明设计人 HENKE WOLFGANG;
申请日2004-02-09
分类号G06F17/10;G02B3/00;G02B9/00;G03F7/20;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 22:00:53