机译:用于过滤辐射源发出的辐射的粒子的过滤系统,具有辐射源的装置,用于过滤辐射源发出的辐射的粒子的过滤系统以及用于处理辐射的处理系统,石像仪和处理方法辐射源的辐射和传播
公开/公告号JP2006216966A
专利类型
公开/公告日2006-08-17
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML NETHERLANDS BV;
申请/专利号JP20060028942
发明设计人 KLUNDER DERK JAN WILFRED;BAKKER LEVINUS PIETER;BANINE VADIM YEVGENYEVICH;VAN HERPEN MAARTEN MARINUS JOHANNES WILHELMUS;
申请日2006-01-10
分类号H01L21/027;G21K5/02;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:56:17