解决方案:在包含活性氧的气氛下,等离子体将含杂质的金属熔化。可替代地,向含杂质的金属中添加金属的氧化物,以便通过等离子体使其熔融,并使熔融的含杂质的金属与熔融的金属的氧化物共存。活性氧或熔融氧化物氧化选自铝,钙,铬,铁,铌,硅,钛和锆的至少一种杂质。连续地,它在活性氢气氛下被等离子体熔化。活性氢还原选自氧,碳和氮的至少一种杂质。因此,容易从金属中除去杂质,并且可以生产高纯度金属。
版权:(C)2006,JPO&NCIPI
公开/公告号JP2006193821A
专利类型
公开/公告日2006-07-27
原文格式PDF
申请/专利号JP20050022050
申请日2005-01-28
分类号C22C38;C22B9/02;C22B9/04;C22B9/10;C22C19/07;C22B3/42;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:55:46