机译:用于光学记录介质的未曝光主光盘中使用的玻璃基质,其表面修饰方法及其表面修饰设备,其表面修饰系统以及用于光学记录介质的光学记录的未曝光主光盘及其方法
要解决的问题:提供一种用于光记录介质的未曝光母盘中的玻璃基板及其表面改性方法等,其能够抑制成本的增加,因为不仅光致抗蚀剂材料之间的粘附性不仅可以改善玻璃基板的表面,而且可以使用现有的简单结构的设备在玻璃基板的表面层叠光致抗蚀剂层。
解决方案:用于光记录介质的未曝光母盘中的玻璃基板的表面改性方法是,在干燥的气氛中加热玻璃基板,并在玻璃基板的表面上提供粘合剂。进行表面改性。优选地,在提供粘合剂之后,将玻璃基板在干燥气氛中冷却,直到玻璃基板的表面温度达到可以在玻璃基板的表面上施加光致抗蚀剂材料的温度。
版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2008282495A
专利类型
公开/公告日2008-11-20
原文格式PDF
申请/专利权人 RICOH CO LTD;
申请/专利号JP20070126890
发明设计人 SHIMOFUKU HIKARI;
申请日2007-05-11
分类号G11B7/26;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:42:59