process for wet chemical u00e4tzenvon has analyzed nanostructured tio2 thin films and has analyzed nanostructured tio2 particles and caustic

摘要

it"},{"src":"soll ein Verfahren und ein u00c4tzmittel zum nasschemischen u00c4tzen","dst":"a method for wet chemical etching and a caustic"},{"src":"von TiO","dst":"of tio2thin films and particles"},{"src":"angegeben werden, das einen definierten Abtrag der TiO","dst":"be given that a defined removal of tio2thin"},{"src":"bzw. eine Reduzierung der Partikelgru00f6u00dfe ermu00f6glicht.","dst":"or a reduction in the particle size possible."},{"src":"Das Verfahren umfasst die Verfahrensschritte Herstellen eines u00c4tzmittels","dst":"the method includes the steps of producing a u00e4tzmittels"},{"src":"mit einem pH-Wert gru00f6u00dfer 13, enthaltend eine Lauge","dst":"with a ph value greater than 13 containing lye"},{"src":"in einer Konzentration von 0,1","dst":"at a concentration of 0.1"},{"src":"Mol, ausgewu00e4hlt aus den Laugen NH","dst":"mol, selected from alkalis nh4oh, naoh"},{"src":"KOH oder Mischungen aus diesen, und H","dst":"koh, or mixtures of these, and h2o2at a low concentration compared with"},{"src":"zur Laugenkonzentration, Einstellen einer Temperatur gleich oder","dst":"the laugenkonzentration, employ a temperature equal or"},{"src":"gru00f6u00dfer Raumtemperatur, Eintauchen der TiO","dst":"higher temperature, immersion of the tio2thin films and particles in"},{"src":"das u00c4tzmittel und Verweilen der Schichten bzw. Partikel","dst":"the caustic and enjoy the layers or particles"},{"src":"in Abhu00e4ngigkeit der Temperatur und Zusammensetzung des u00c4tzmittels,","dst":"in dependence on the temperature and composition of the u00e4tzmittels,"},{"src":"Herausnehmen der geu00e4tzten TiO","dst":"removing the etched tio2thin films"},{"src":"bzw. -Partikel, Abspu00fclen mit destilliertem Wasser und Trocknen.","dst":"or particles, rinsing with distilled water, and drying."},{"src":"Zum Aufrechterhalten der anfu00e4nglichen Zusammensetzung des u00c4tzmittels","dst":"to maintain the initial composition of the u00e4tzmittels"},{"src":"wird wu00e4hrend des u00c4tzprozesses H","dst":"during the u00e4tzprozesses h2o2i admit it.