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SEED CRYSTAL FOR SILICON CARBIDE SINGLE CRYSTAL GROWTH, METHOD FOR PRODUCING THE SEED CRYSTAL, SILICON CARBIDE SINGLE CRYSTAL, AND METHOD FOR PRODUCING THE SINGLE CRYSTAL

机译:用于碳化硅单晶生长的种子晶体,制备晶种的方法,碳化硅单晶以及制备单晶的方法

摘要

A seed crystal for silicon carbide single crystal growth (13) which is attached to the lid of a graphite crucible charged with a raw material silicon carbide powder. The seed crystal includes a seed crystal (4) formed of silicon carbide having one surface defined as a growth surface (4a) for growing a silicon carbide single crystal by a sublimation method, and a carbon film (12) formed on the surface (4b) opposite to the growth surface of the seed crystal (4). Further, the film density of the carbon film (12) is 1.2 g/cm3 to 3.3 g/cm3.
机译:用于碳化硅单晶生长的晶种( 13 ),附着在装有原料碳化硅粉末的石墨坩埚的盖子上。种晶包括由碳化硅形成的种晶( 4 ),该种晶的一个表面被定义为用于生长a的生长表面( 4 a )。通过升华法形成碳化硅单晶,并在与生长表面相对的表面( 4 b )上形成碳膜( 12 ) ( 4 )的晶种。此外,碳膜( 12 )的膜密度为1.2g / cm 3 至3.3g / cm 3

著录项

  • 公开/公告号US2011111171A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-05-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NAOKI OYANAGI;HISAO KOGOI;

    申请/专利号US200913000975

  • 发明设计人 NAOKI OYANAGI;HISAO KOGOI;

    申请日2009-06-12

  • 分类号C30B29/36;B32B9/04;B32B5;C23C16/26;C23C16/513;C23C16/48;C23C14/34;C23C14/28;C30B23/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:16:18

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