首页> 外国专利> System and method for using first-principles simulation to control a semiconductor manufacturing process via a simulation result or a derived empirical model

System and method for using first-principles simulation to control a semiconductor manufacturing process via a simulation result or a derived empirical model

机译:使用第一原理仿真通过仿真结果或导出的经验模型来控制半导体制造过程的系统和方法

摘要

A method, system and computer readable medium for controlling a process performed by a semiconductor processing tool. The method includes inputting data relating to a process performed by the semiconductor processing tool, inputting a first principles physical model relating to the semiconductor processing tool, performing first principles simulation using the input data and the physical model to provide a first principles simulation result. The first principles simulation result is used to build an empirical model, and at least one of the first principles simulation result and the empirical model is selected to control the process performed by the semiconductor processing tool.
机译:一种用于控制由半导体处理工具执行的过程的方法,系统和计算机可读介质。该方法包括:输入与由半导体处理工具执行的处理有关的数据;输入与半导体处理工具有关的第一原理物理模型;使用输入数据和物理模型执行第一原理仿真,以提供第一原理仿真结果。使用第一原理模拟结果来建立经验模型,并且选择第一原理模拟结果和经验模型中的至少一个来控​​制由半导体处理工具执行的过程。

著录项

  • 公开/公告号US8036869B2

    专利类型

  • 公开/公告日2011-10-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ERIC J. STRANG;ANDREJ MITROVIC;

    申请/专利号US20030673467

  • 发明设计人 ERIC J. STRANG;ANDREJ MITROVIC;

    申请日2003-09-30

  • 分类号G06F17/50;G06F19;G06G7/48;H01L21;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:13:44

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号