首页> 外国专利> SEMICONDUCTOR SUBSTRATE TRANSFER / TUNNEL TREATMENT FOR THE ATTENTION OF ATTENTION THEREOF SUBSEQUENT SEMICONDUCTOR TREATMENTS OF SUBSEQUENT SEMICONDUCTOR SUBSTRAATED SUBSTRAATICALLY DEPLOYING THEM.

SEMICONDUCTOR SUBSTRATE TRANSFER / TUNNEL TREATMENT FOR THE ATTENTION OF ATTENTION THEREOF SUBSEQUENT SEMICONDUCTOR TREATMENTS OF SUBSEQUENT SEMICONDUCTOR SUBSTRAATED SUBSTRAATICALLY DEPLOYING THEM.

机译:半导体基质转移/隧道处理,用于注意对已继子的,以大量的方式进行底层部署的半导体的后续半导体处理的注意。

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号NL1037067C2

    专利类型

  • 公开/公告日2010-12-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 BOK EDWARD;

    申请/专利号NL20091037067

  • 发明设计人 BOK EDWARD;

    申请日2009-06-23

  • 分类号H01L21/677;

  • 国家 NL

  • 入库时间 2022-08-21 18:05:14

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