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SPIN INJECTION DEVICE HAVING SEMICONDUCTOR-FERROMAGNETIC-SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND SPIN TRANSISTOR

机译:具有半导体-铁磁-半导体-半导体结构和自旋晶体管的自旋注入装置

摘要

A spin injection device and spin transistor including a spin injection device. A spin injection device includes different semiconductor materials and a spin-polarizing ferromagnetic material there between. The semiconductor materials may have different crystalline structures, e.g., a first material can be polycrystalline or amorphous silicon, and a second material can be single crystalline silicon. Charge carriers are spin-polarized when the traverse the spin-polarizing ferromagnetic material and injected into the second semiconductor material. A Schottky barrier height between the first semiconductor and ferromagnetic materials is larger than a second Schottky barrier height between the ferromagnetic and second semiconductor materials. A spin injection device may be a source of a spin field effect transistor.
机译:自旋注入器件和包括自旋注入器件的自旋晶体管。自旋注入装置包括不同的半导体材料和介于它们之间的自旋极化铁磁材料。半导体材料可以具有不同的晶体结构,例如,第一材料可以是多晶硅或非晶硅,而第二材料可以是单晶硅。当穿过自旋极化铁磁材料时,电荷载流子被自旋极化并注入第二半导体材料中。第一半导体和铁磁材料之间的肖特基势垒高度大于铁磁和第二半导体材料之间的第二肖特基势垒高度。自旋注入装置可以是自旋场效应晶体管的源极。

著录项

  • 公开/公告号US2012112189A1

    专利类型

  • 公开/公告日2012-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 YA-HONG XIE;

    申请/专利号US201213350591

  • 发明设计人 YA-HONG XIE;

    申请日2012-01-13

  • 分类号H01L29/78;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:30:23

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