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Monomer for hard mask composition, hard mask composition containing the monomer, and pattern forming method using the hard mask composition

机译：硬掩模组合物用单体，含有该单体的硬掩模组合物以及使用该硬掩模组合物的图案形成方法

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The present invention relates to a monomer for a hard mask composition represented by Chemical Formula 1, a hard mask composition containing the monomer, and a pattern forming method using the same. [Selection figure] None

机译：本发明涉及由化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体，包含该单体的硬掩模组合物以及使用其的图案形成方法。 [选择图]无

著录项

公开/公告号JP2015515112A

专利类型
公开/公告日2015-05-21

原文格式PDF
申请/专利权人チェイルインダストリーズインコーポレイテッド;
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申请/专利号JP20140549963
发明设计人キム;ユン－ジュン;チョン;ファン－サン;チョウ;ユン－ジン;ユン;ヨン－ウォン;リー;チャン－ホン;クォン;ヒョ－ヨン;チョイ;ヨウ－ジョン;
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申请日2012-11-29
分类号H01L21/3065;H01L21/312;G03F7/26;H01L21/027;C08G65/34;G03F7/11;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 15:32:16

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