机译:制备氧化多孔氧化铝的阳极工艺,装置,通过该方法制备的阳极氧化多孔氧化铝,模压阳极氧化多孔氧化铝已制成模板,防反射制品和疏水制品。
公开/公告号JP5626636B2
专利类型
公开/公告日2014-11-19
原文格式PDF
申请/专利权人 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー;
申请/专利号JP20100215100
申请日2010-09-27
分类号C25D21/02;C25D11/04;C25D11/12;B29C33/38;G02B1/11;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 15:28:28