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MULTISCALE PATTERNING OF A SAMPLE WITH APPARATUS HAVING BOTH THERMO-OPTICAL LITHOGRAPHY CAPABILITY AND THERMAL SCANNING PROBE LITHOGRAPHY CAPABILITY
MULTISCALE PATTERNING OF A SAMPLE WITH APPARATUS HAVING BOTH THERMO-OPTICAL LITHOGRAPHY CAPABILITY AND THERMAL SCANNING PROBE LITHOGRAPHY CAPABILITY
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机译：同时具有热光光刻技术和热扫描探针光刻技术的设备的多尺度图案化
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The present invention is notably directed to apparatuses and methods for multiscale patterning of a sample (9). Such methods comprise: placing (S10) the sample (9) in an apparatus (10) having both thermo-optical lithography capability (20) and thermal scanning probe lithography capability (30); and patterning (S20, S30) two patterns (200, 300) onto the sample (9), respectively by: thermo-optical lithography (20, S20), wherein light (l1, l 3) is emitted (S22) from a light source (2) onto the sample (9) to heat the latter and thereby write (S28) a first pattern (200) that is the largest of the two patterns (200, 300); and thermal scanning probe lithography (30, S30), wherein the sample (9) and a heated probe tip are brought in contact (S34) for writing (S38) a second pattern (300) that has substantially smaller critical dimensions than the first pattern (200).
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机译：本发明尤其涉及用于样品（9）的多尺度图案化的设备和方法。这样的方法包括：将样品（9）放置（S10）在同时具有热光学光刻能力（20）和热扫描探针光刻能力（30）的设备（10）中;分别通过以下步骤在样品（9）上将两个图案（200，300）图案化（S20，S30）：热光光刻（20，S20），其中光（ l 1 ，l 3 ）从光源（2）发射（S22）到样品上（9）加热后者，从而写入（S28）两个图案（200、300）中最大的第一图案（200）;以及热扫描探针光刻（30，S30），其中使样品（9）和加热的探针尖端接触（S34），以写入（S38）具有实质上小于第一图案的临界尺寸的第二图案（300） （200）。
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