机译:使用化学还原法和压力辅助热还原法的还原性氧化石墨烯膜的制备方法,由其制备的还原性氧化石墨烯膜和包括该还原性氧化石墨烯膜的石墨烯电极
公开/公告号US9236156B2
专利类型
公开/公告日2016-01-12
原文格式PDF
申请/专利权人 SNU R&DB FOUNDATION;
申请/专利号US201414220399
申请日2014-03-20
分类号C23C16/40;C23C16/50;H05H1/24;H01B1/04;H01L51/00;H01L51/05;
国家 US
入库时间 2022-08-21 14:31:10