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Aberration calculation apparatus, aberration calculation method, image processing apparatus, image processing method, and electron microscope

机译:像差计算设备,像差​​计算方法,图像处理设备,图像处理方法和电子显微镜

摘要

An aberration computing device (100) includes a fitting section (48) for fitting line profiles of a diffractogram taken in radial directions to a fitting function and finding fitting parameters of the fitting function and a computing section (49) for finding at least one of an amount of defocus and two-fold astigmatism, based on the fitting parameters.
机译:像差计算设备(100)包括:拟合部分(48),用于将沿径向方向拍摄的衍射图的线轮廓拟合到拟合函数,并找到该拟合函数的拟合参数;以及计算部分(49),用于计算以下项中的至少一个:根据拟合参数确定一定数量的散焦和两倍散光。

著录项

  • 公开/公告号JP6283563B2

    专利类型

  • 公开/公告日2018-02-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本電子株式会社;

    申请/专利号JP20140096832

  • 发明设计人 森下 茂幸;

    申请日2014-05-08

  • 分类号H01J37/153;H01J37/26;H01J37/24;H01J37/22;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:07:28

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