首页> 外国专利> A MEASUREMENT SUBSTRATE, A MEASUREMENT METHOD AND A MEASUREMENT SYSTEM

A MEASUREMENT SUBSTRATE, A MEASUREMENT METHOD AND A MEASUREMENT SYSTEM

机译:一种测量基质,一种测量方法及一种测量系统

摘要

A method of measuring wear of a substrate holder that is configured to hold a production substrate, the method comprising: clamping a measurement substrate to the substrate holder; and measuring strain in the measurement substrate to generate a measurement result. The measurement substrate may comprise a body having dimensions similar to that of the production substrate; and a strain sensor in the body configured to measure strain in a peripheral portion of the measurement substrate.
机译:一种测量构造成保持生产基板的基板支架的磨损的方法,该方法包括:将测量基板夹紧到基板支架;测量测量基板中的应变以产生测量结果。所述测量基板可以包括具有与所述生产基板的尺寸相似的尺寸的主体。本体中的应变传感器被配置为测量测量基板的外围部分中的应变。

著录项

  • 公开/公告号WO2018077517A1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-05-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML NETHERLANDS B.V.;

    申请/专利号WO2017EP72543

  • 发明设计人 GUAN TIANNAN;LI JINGSHI;YU MIAO;

    申请日2017-09-08

  • 分类号G03F7/20;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 12:44:22

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号