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METHOD FOR DETERMINING A CORRECTED DIMENSIONAL PARAMETER VALUE RELATING TO A FEATURE FORMED BY A LITHOGRAPHIC PROCESS AND ASSOCIATED APPARATUSES

机译:确定与光刻工艺和相关设备相关的特征的校正后的尺寸参数值的方法

摘要

A method of determining a corrected dimensional parameter value relating to a feature formed by a lithographic process, the corrected dimensional parameter value being corrected for a measurement effect on the dimensional parameter, the method including: performing a measurement to obtain at least two measurement values for the dimensional parameter; determining the measurement effect from the at least two measurement values; and determining the corrected dimensional parameter value from the determined measurement effect.
机译:一种确定与通过光刻工艺形成的特征有关的校正后的尺寸参数值的方法,该校正后的尺寸参数值针对对尺寸参数的测量影响而校正,该方法包括:执行测量以获得至少两个测量值,以用于尺寸参数;从至少两个测量值确定测量效果;根据确定的测量效果确定校正后的尺寸参数值。

著录项

  • 公开/公告号WO2019162203A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-08-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML NETHERLANDS B.V.;

    申请/专利号WO2019EP53797

  • 发明设计人 WUISTER SANDER FREDERIK;WALLOW THOMAS I.;

    申请日2019-02-15

  • 分类号G03F7/20;G01N23/2251;H01J37/317;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 11:53:31

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