首页> 外国专利> 2 Structure and Fabrication Method of Photo Detector Device using Two Dimensional Doping Technology

2 Structure and Fabrication Method of Photo Detector Device using Two Dimensional Doping Technology

机译:2采用二维掺杂技术的光电探测器的结构和制作方法

摘要

The present invention relates to a light receiving element using two-dimensional doping technology and a manufacturing method thereof. The light receiving element comprises: a light absorption epitaxial layer positioned at front surface on top of the semiconductor substrate; and a focusing layer, an acceleration layer, a multiplication layer, a cap layer, and an n(^+)- epitaxial layer sequentially stacked on part of the center on top of the light absorption epitaxial layer and forming a mesa structure. The p-type impurity ions are two-dimensionally doped on the focusing layer and the multiplication layer.
机译:本发明涉及一种使用二维掺杂技术的光接收元件及其制造方法。所述光接收元件包括:光吸收外延层,其位于所述半导体衬底的顶部上的前表面处;以及光吸收层。聚焦层,加速层,倍增层,覆盖层和n(^ +)-外延层依次堆叠在光吸收外延层顶部的中心部分上并形成台面结构。 p型杂质离子被二维掺杂在聚焦层和倍增层上。

著录项

  • 公开/公告号KR20190104717A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-09-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIGETRONICS INC.;

    申请/专利号KR20180025164

  • 发明设计人 DEOK HO CHO;KYU HWAN SHIM;SANG SIG CHOI;

    申请日2018-03-02

  • 分类号H01L31/107;H01L31/036;H01L31/18;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:49:51

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号