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Mehod and Apparatus for inducing phase transition in a thin film of transition metal dichalcogenide

机译:在过渡金属二卤化硅薄膜中诱导相变的方法和设备

摘要

The present invention relates to a method and apparatus for phase transition of a TMD thin film, comprising: forming a TMD thin film containing either selenium (Se) or tellurium (Te) on a substrate; Generating a plasma at a pressure between 10 mTorr and 100 mTorr; And impinging acceleration ions on the TMD thin film from the plasma, wherein energy of the accelerating ions is higher than phase transition energy of the TMD thin film.
机译:本发明涉及用于TMD薄膜的相变的方法和设备,包括:在基板上形成包含硒(Se)或碲(Te)的TMD薄膜。在10 mTorr和100 mTorr之间的压力下产生等离子体;并且从等离子体向TMD薄膜撞击加速离子,其中,加速离子的能量高于TMD薄膜的相变能量。

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