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Three-dimensional memory device containing hydrogen diffusion blocking structures and method of making the same

机译:包含氢扩散阻挡结构的三维存储器件及其制造方法

摘要

A semiconductor structure includes a semiconductor device, an overlying silicon nitride diffusion barrier layer, and an interconnect structure extending through the silicon nitride diffusion barrier layer. The interconnect structure includes a titanium diffusion barrier structure in contact with the silicon nitride diffusion barrier layer to form a continuous hydrogen diffusion barrier structure.
机译:半导体结构包括半导体器件,上覆的氮化硅扩散阻挡层和延伸穿过氮化硅扩散阻挡层的互连结构。互连结构包括与氮化硅扩散阻挡层接触以形成连续的氢扩散阻挡结构的钛扩散阻挡结构。

著录项

  • 公开/公告号US10515907B2

    专利类型

  • 公开/公告日2019-12-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANDISK TECHNOLOGIES LLC;

    申请/专利号US201815982188

  • 申请日2018-05-17

  • 分类号H01L23;H01L23/522;H01L27/11556;H01L21/768;H01L27/1157;H01L27/11524;H01L27/11582;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:28:05

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