一种直接置换插层制备层间距为0.85nm的水合高岭石的方法

摘要

本发明公开了一种直接置换插层制备层间距为0.85nm的水合高岭石的方法，该法包括以下步骤：先通过研磨后续热处理法制备得到尿素/高岭石插层复合物和多余尿素的混合物；再将多余的尿素用去离子水洗去，得到尿素/高岭石插层复合物；最后将尿素/高岭石插层复合物加入到热水中搅拌几分钟，离心干燥后即可得到层间距为0.85nm的水合高岭石。本发明制备层间距为0.85nm的水合高岭石在空气中能够长时间稳定存在，被用来作为制备其他高岭石插层复合物的前躯体。采用的原料对环境无污染，制备工艺简单快速，成本低，易于实现工业化生产。