法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-10-26
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C04B 35/10 授权公告日:20120523 终止日期:20150906 申请日:20060906
专利权的终止
2012-05-23
授权
授权
2008-10-29
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-09-03
公开
公开
机译: 阻隔层如何为气化反应器,化学气化反应器,反应器向黑液部署化学阻隔层,以及制造用于这种阻隔层的构件的方法
机译: 阻隔层如何为气化反应器,化学气化反应器,反应器向黑液部署化学阻隔层,以及制造用于这种阻隔层的构件的方法
机译: 在用于黑液的气化反应器中设置化学屏障的方法,化学气化反应器,反应器的屏障层以及用于这种屏障层的构件的制造方法