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具有大而均匀的电流的大阵列上指PIN二极管及其形成方法

摘要

本发明公开了一种沉积硅、锗、或硅锗形成的上指PIN二极管。该二极管具有底层重掺杂P型区、中间本征或轻掺杂区和上层重掺杂N型区。上层重掺杂P型区掺杂砷,并且二极管的半导体材料在接触合适的硅化物、锗化物或硅锗化物时被结晶。可以形成大阵列的此上指二极管,当在二极管上施加大于导通电压的电压时,穿过该阵列的电流均匀性极佳。该二极管可以有利地用于单片三维存储器阵列中。本发明还公开了形成大量上指PIN二极管的方法和许多其他方面。

著录项

  • 公开/公告号CN101681914B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-02-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 桑迪士克3D公司;

    申请/专利号CN200880017712.7

  • 发明设计人 S·B·赫纳;

    申请日2008-03-26

  • 分类号

  • 代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵蓉民

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-09-14

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 27/102 变更前: 变更后: 申请日:20080326

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2016-06-22

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 27/102 登记生效日:20160603 变更前: 变更后: 申请日:20080326

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-02-22

    授权

    授权

  • 2010-05-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/102 申请日:20080326

    实质审查的生效

  • 2010-03-24

    公开

    公开

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