用于在化学气相沉积-反应器中沉积涂层的方法及用于化学气相沉积-反应器的进气装置

摘要

本发明涉及一种用于在一个或多个衬底上涂覆涂层的方法，所述涂层的成分以至少两种气体的形式借助于一进气装置输入工艺过程腔室(7)，其中，所述气体分别被引入所述进气装置的叠置的腔室(1，2)，并且从那通过连接至所述工艺过程腔室(7)的气体流出孔(3，4)进入所述工艺过程腔室(7)。为了进一步发展开头所述的、用于形成单层涂层的方法或装置，本发明建议，由于两个腔室中的每个各分为至少两个基本上全等地叠置的隔间(1a，1b；2a，2b)，所述两种过程气体在周向相互分隔地进入所述工艺过程腔室，因此，环形地布置在形成所述工艺过程腔室(7)的底部的衬底支架(9)上的衬底(10)由于所述衬底支架(9)围绕其轴线(9)的转动依次暴露在不同的过程气体中。