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默认多晶硅间距设计规则下的混合多晶硅间距单元设计结构及系统

摘要

本发明公开一种保留类型-1单元与类型-2单元的集成电路。类型-1单元包括具有默认多晶硅间距的多晶硅线。类型-2单元包括具有非默认多晶硅间距的多晶硅线。第一边界区域包括至少一个隔离区域,所述隔离区域沿第一方向位于类型-1单元与类型-2单元之间。所述第一边界区域包括至少一个合并伪多晶硅线,其中所述至少一个合并伪多晶硅线包括符合所述类型-1单元的默认多晶硅间距的第一部分,以及符合所述类型-2单元的非默认多晶硅间距的第二部分。

著录项

  • 公开/公告号CN101673735B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-11-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN200910176406.4

  • 申请日2009-09-14

  • 分类号H01L27/02(20060101);H01L23/528(20060101);

  • 代理机构11306 北京市德恒律师事务所;

  • 代理人梁永

  • 地址 中国台湾新竹

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-11-16

    授权

    授权

  • 2010-04-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/02 申请日:20090914

    实质审查的生效

  • 2010-03-17

    公开

    公开

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