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一种伪装目标与背景光谱一致性分析方法

摘要

本发明提供一种伪装目标与背景光谱一致性分析方法,所述方法包括:伪装目标与背景光谱信息预处理、信息存储、特征光谱建模分析、目标与背景光谱拟合比对、一致性评估;所述输入的伪装目标与背景光谱信息经所述预处理模块的处理后传输至所述信息存储模块进行存储,所述信息存储模块将存储的光谱信息传输至所述特征光谱建模分析模块、目标与背景光谱拟合比对模块;比对结果传输至所述一致性评估模块,最终输出伪装目标与背景的光谱一致性结果。本发明可应用于目标侦察、环境融入性分析等领域,能够在动态场景下实现对目标和其所处背景在光谱维一致性的准确分析和计算,消除因场景变化对目标的光谱信息分析带来的影响。

著录项

  • 公开/公告号CN112115850B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023.01.03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工程大学;

    申请/专利号CN202010975742.1

  • 申请日2020.09.16

  • 分类号G06V20/10;G06V10/58;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区南通大街145号哈尔滨工程大学科技处知识产权办公室

  • 入库时间 2023-01-12 18:57:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-01-03

    授权

    发明专利权授予

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