公开/公告号CN113174568B
专利类型发明专利
公开/公告日2022.11.22
原文格式PDF
申请/专利权人 中国航发北京航空材料研究院;
申请/专利号CN202110423427.2
申请日2021.04.20
分类号C23C14/30;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/58;G01K7/02;F01D5/28;
代理机构中国航空专利中心;
代理人仉宇
地址 100095 北京市海淀区北京市81号信箱科技发展部
入库时间 2022-12-29 02:01:09
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-22
授权
发明专利权授予
机译: 氧化铟锡溶胶和氧化铟锡薄膜的制备方法
机译: 氧化铟锡溶胶和氧化铟锡薄膜的制备方法
机译: 直接在氧化铟/氧化锡透明电极基质上监测有机薄膜的气相沉积过程的气相沉积薄膜的制备方法