一种AT切石英晶片的有机刻蚀液及刻蚀方法

摘要

本发明公开一种AT切石英晶片的有机刻蚀液及刻蚀方法。该AT切石英晶片的有机刻蚀液，按重量百分比计，由如下组分组成：无水氟化氢30％～50％、第一有机溶剂30％～42％和第二有机溶剂20％～28％；所述第一有机溶剂选自多元醇、吡啶、二甲基亚砜、羧酸中的一种；所述第二有机溶剂选自二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N,N‑二异丙基乙胺、N,N‑二甲基丙烯基脲中的一种。本发明的有机刻蚀液是通过先将无水氟化氢加入第二有机溶剂生成络合物，然后再将络合物溶入第一有机溶剂中制备而成；本发明的刻蚀方法，可通过在较高溶液温度下进行刻蚀加工，提高了刻蚀速率，同时减少了因刻蚀不均匀造成的表面褶皱、条纹等缺陷。