公开/公告号CN109065717B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-05-10
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;
申请/专利号CN201810882431.3
发明设计人 曹子贵;
申请日2018-08-06
分类号H01L49/02;H01L27/11531;
代理机构
代理人
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
入库时间 2022-08-23 13:37:52
机译: 图像形成装置,图像形成方法和图像形成程序
机译: 图像形成装置和由该图像形成装置执行的认证方法