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一种评估聚合物基自修复膜自修复能力的方法

摘要

本发明涉及一种评估聚合物基自修复膜自修复能力的方法,是将聚合物基自修复膜进行制样—刻蚀—自修复—测量过程,当测量结果不合规时,即当裂纹形貌目视存在明显裂纹或者D大于阈值K时,则重新进行制样—刻蚀—自修复—测量的过程,且刻蚀的特定裂纹结构为上一次刻蚀中的自修复能力下一等级对应的结构;当测量结果合规时,即当裂纹形貌目视无明显裂纹且D小于等于阈值K时,则聚合物基自修复膜的自修复能力等级为该次刻蚀中的特定裂纹结构所对应的等级;特定裂纹结构由具有相同间距的裂纹构成,每个裂纹的尺寸用直径和深度或者宽度和深度表示;自修复能力等级分为优、良、中、差四个等级。

著录项

  • 公开/公告号CN111474171B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 嘉兴学院;

    申请/专利号CN202010098556.4

  • 申请日2020-02-18

  • 分类号G01N21/84(20060101);G01N23/04(20180101);G01N23/20(20180101);G01N23/2005(20180101);G01N1/28(20060101);G01N1/32(20060101);G01B11/30(20060101);G01B15/04(20060101);

  • 代理机构31303 上海统摄知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人杜亚

  • 地址 314001 浙江省嘉兴市经济开发区昌盛南路36号嘉兴学院智慧产业创新园7号楼

  • 入库时间 2022-08-23 13:22:45

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