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用于校正能量依赖投影值的校正装置

摘要

本发明涉及一种用于校正能量依赖投影值的校正装置。投影值提供单元(13)提供已在校准操作期间基于已穿过材料并且撞击在能量分辨检测器(6)上的辐射,针对a)所述辐射的强度已在所述校准操作中改变之后的不同时间、b)不同强度变化和c)不同材料和/或不同材料厚度生成的能量依赖校准投影值。瞬态行为确定和校正单元(12)基于所述能量依赖校准投影值来确定所述能量分辨检测器的瞬态行为,并且基于确定的所述瞬态行为来校正能量依赖实际投影值。校正后的所述能量依赖实际投影值较少受所述能量分辨检测器的瞬态行为的影响或完全不受所述能量分辨检测器的瞬态行为影响,由此改进所述能量依赖实际投影值的品质。

著录项

  • 公开/公告号CN107111888B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 皇家飞利浦有限公司;

    申请/专利号CN201580072744.7

  • 申请日2015-12-24

  • 分类号G06T11/00(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人蔡洪贵

  • 地址 荷兰艾恩德霍芬

  • 入库时间 2022-08-23 11:33:29

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