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一种次临界系统次临界度的测量方法

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摘要

本发明提供一种次临界系统次临界度的测量方法。其包括：将至少两个相同的探测器均匀布置在受外源影响相同的对称位置；获取至少两个相同的探测器的探测器截面Σ

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-06-04

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G21C 17/00 授权公告日:20170125 终止日期:20180620 申请日:20140620

专利权的终止
2017-01-25

授权

授权
2017-01-25

授权

授权
2014-10-15

实质审查的生效 IPC(主分类):G21C17/00 申请日:20140620

实质审查的生效
2014-10-15

实质审查的生效 IPC(主分类):G21C 17/00 申请日:20140620

实质审查的生效
2014-09-10

公开

公开
2014-09-10

公开

公开

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1. 一种基于中子平均能量的次临界系统次临界度测量方法 [P] . 中国专利： CN104898155B . 2018.03.27
2. 一种基于中子平均能量的次临界系统次临界度测量方法 [P] . 中国专利： CN104898155A . 2015-09-09
3. SUBCRITICALITY MEASURING APPARATUS AND SUBCRITICALITY MEASURING METHOD [P] . 日本专利： JP2013003104A . 2013-01-07

机译：次临界度测量装置和次临界度测量方法
4. SUBCRITICALITY EVALUATION METHOD AND SUBCRITICALITY EVALUATION DEVICE [P] . 日本专利： JP2019179019A . 2019-10-17

机译：次临界度评价方法及次临界度评价装置
5. SUBCRITICALITY MEASURING METHOD AND DEVICE [P] . 日本专利： JP2014106104A . 2014-06-09

机译：次临界度测量方法及装置