一种用于高功率磁控溅射的靶材组件

摘要

本实用新型提供了一种用于高功率磁控溅射的靶材组件，包括靶材和背板，所述靶材包括溅射面和背面，所述背板包括固定面和冷却面，所述靶材的背面与所述背板的固定面相连接，所述背板的冷却面开设有梯形凹槽；其中，沿所述背板的边缘向所述背板的中心方向，所述梯形凹槽的侧面呈直线向下倾斜状。本实用新型所述用于高功率磁控溅射的靶材组件，在背板的冷却面开设具有一定倾斜度的梯形凹槽，可以有效地增强冷却效果，避免靶材的溅射面发生开裂。