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离子轰击装置及真空镀膜生产线

摘要

本实用新型公开了一种离子轰击装置及真空镀膜生产线,其包括:壳体、轰击板、电连接器和绝缘结构,壳体内部设置有腔体;轰击板安装于所述腔体内,所述轰击板上设置有接线座;电连接器设置于所述壳体,所述腔体内设置有导线,所述接线座与所述电连接器通过所述导线电连接;绝缘结构设置于所述轰击板和所述壳体之间并能够对二者进行绝缘处理。轰击板相比于现有的轰击棒,在其平面一侧不仅拥有更大的有效轰击面积,并且可以直接确定轰击的方向,因此可以有效地提高原子离化的速度,并减少能量的逸散,进而大大提高镀膜的作业效率。

著录项

  • 公开/公告号CN217588841U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-10-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中山凯旋真空科技股份有限公司;

    申请/专利号CN202221100259.X

  • 发明设计人 张健宁;夏健全;吴洽;

    申请日2022-05-09

  • 分类号H01J37/30;C23C14/02;C23C14/22;

  • 代理机构广州嘉权专利商标事务所有限公司;

  • 代理人肖军

  • 地址 528478 广东省中山市横栏镇环镇北路27号

  • 入库时间 2022-11-28 18:22:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-10-14

    授权

    实用新型专利权授予

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