公开/公告号CN217588841U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-10-14
原文格式PDF
申请/专利权人 中山凯旋真空科技股份有限公司;
申请/专利号CN202221100259.X
申请日2022-05-09
分类号H01J37/30;C23C14/02;C23C14/22;
代理机构广州嘉权专利商标事务所有限公司;
代理人肖军
地址 528478 广东省中山市横栏镇环镇北路27号
入库时间 2022-11-28 18:22:04
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-10-14
授权
实用新型专利权授予
机译: 真空镀膜离子轰击装置
机译: 用于离子轰击,使用该离子轰击装置的离子轰击电极以及离子轰击方法
机译: 离子轰击处理装置和使用该离子轰击处理装置清洁基材表面的方法