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化学气相沉积设备的气路结构及化学气相沉积设备

摘要

本申请公开了一种化学气相沉积设备的气路结构及化学气相沉积设备,其中,化学气相沉积设备包括反应器和气路结构,气路结构用于对反应器的沉积腔通气。气路结构包括制程管道、清洁管道、连接件和吸气通道,制程管道配置为输送制程气体,清洁管道配置为输送清洁气体,连接件具有分别与沉积腔连通的第一通道和第二通道,第一通道和第二通道间隔设置,第一通道与制程管道连通,第二通道与清洁管道连通。吸气通道与沉积腔连通,吸气通道用于对沉积腔吸气,以阻挡清洁气体进入制程管道,降低清洁气体腐蚀制程管道的风险,提高可靠性。

著录项

  • 公开/公告号CN216473473U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 长江存储科技有限责任公司;

    申请/专利号CN202122378402.3

  • 发明设计人 卢山;陈神星;姜鼎;黄荣;

    申请日2021-09-29

  • 分类号C23C16/455;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号

  • 入库时间 2022-08-23 06:41:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-10

    授权

    实用新型专利权授予

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