首页> 中国专利> 一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构

一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构

摘要

本实用新型公开了一种防止胶框与铁框配合后有向下活动空间胶框结构,涉及胶框领域,包括下铁框和胶框,胶框位于下铁框的外表面,胶框的内部上方和两侧均开设有缺口,胶框的内部设置有反射层。本实用新型通过设置有缺口,且该缺口尺寸为20mm,此缺口受力时胶框也不会向下变形,而对应的反射层凸块位于缺口内部,确保反射组装时还是以下铁框来定位,非伸出的结构外形内缩小于胶框的支撑面内部尺寸结构,组装后胶框支撑面与下铁框直接接触,避免了中间物料反射的介入,直接减去因反射因素所带来的局部按压下沉的问题,同时无需增加一套模具,不影响光学指标,包括亮度、均匀性等,不影响产品的组装效率,并提高了产品的稳定性。

著录项

  • 公开/公告号CN216052514U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-03-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市中深光电股份有限公司;

    申请/专利号CN202122239498.5

  • 发明设计人 莫雅馨;卢志坚;徐锋涛;

    申请日2021-09-15

  • 分类号G02F1/1333(20060101);G02F1/1335(20060101);G09F9/30(20060101);

  • 代理机构44548 深圳市正德知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人杨佳龙;王玉梅

  • 地址 518000 广东省深圳市宝安区松岗街道沙浦围社区茅洲工业区第11栋厂房1、2栋

  • 入库时间 2022-08-23 05:25:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-15

    授权

    实用新型专利权授予

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号