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半导体结晶性评价装置及半导体结晶性评价方法

摘要

本发明所涉及的半导体结晶性评价装置及半导体结晶性评价方法是利用μ-PCD法来评价半导体膜的结晶性的装置及方法。在进行该半导体膜的结晶性评价时,具有指定厚度的介电体板被设置在所述半导体膜中激发光及电磁波所照射的面侧。因此,这样的半导体结晶性评价装置及半导体结晶性评价方法在利用μ-PCD法来评价半导体膜的结晶性时,即使在半导体膜下形成有导电性膜的情况下,也因为设置了所述介电体板而能够评价半导体膜的结晶性。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-03

    授权

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  • 2013-10-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20130305

    实质审查的生效

  • 2013-09-18

    公开

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