一种MOCVD装置

摘要

本实用新型公开一种MOCVD装置，包括反应腔，反应腔上有密封用的顶盖，顶盖包括相对的内侧表面和外侧表面，内侧表面朝向反应腔的腔体内部空间，其特征在于：MOCVD还包括一个保护罩，保护罩用于罩住顶盖的内侧表面。所述MOCVD顶盖上部包括三种管道，在MOCVD机台拆炉维护过程中，所述三种管道可外接至N2管道中，对顶盖进行持续吹扫。本实用新型提出的MOCVD装置通过保护罩和外接N2吹扫，可减少拆炉过程中顶盖长时间暴露在水氧环境中，减少顶盖内部残留MO源与水氧的反应时长；加快复机速度，提高产能；同时减少生长过程中水氧释放对产品性能的不良影响，提高产品良率。