首页> 中国专利> 谷氨酸N,N-二乙酸盐螯合剂的涂覆颗粒

谷氨酸N,N-二乙酸盐螯合剂的涂覆颗粒

摘要

制备包含颗粒和涂层的涂覆颗粒的方法,其中所述颗粒包含式HnYm-GLDA的谷氨酸N,N-二乙酸或其(部分)盐,其中Y为选自钠、钾、锂及其混合物的阳离子,n+m=4,其中所述颗粒由具有4-11的pH值且包含谷氨酸N,N-二乙酸或其部分盐的溶液制备,且随后或同时将所述涂层施加至所述颗粒上;还涉及HnYm-GLDA的半成品颗粒,其中n为0.1-3.2,m为0.8-3.9,以及可由所述方法获得的涂覆颗粒及其用途。

著录项

  • 公开/公告号CN102666828B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-07-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 阿克佐诺贝尔化学国际公司;

    申请/专利号CN201080058421.X

  • 发明设计人 C·E·J·范莱尔;R·G·杜彭;

    申请日2010-12-21

  • 分类号C11D17/00(20060101);C11D3/33(20060101);

  • 代理机构11247 北京市中咨律师事务所;

  • 代理人肖威;刘金辉

  • 地址 荷兰阿默斯福特

  • 入库时间 2022-08-23 09:20:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-30

    授权

    授权

  • 2012-11-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C11D 17/00 申请日:20101221

    实质审查的生效

  • 2012-09-12

    公开

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