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校准装置、距离测量系统和校准方法

摘要

本发明公开了一种校准装置,其被配置成:接收两个参考图像和多个视差数据项的输入,所述两个参考图像是由处于两个位置的成像设备中的一个成像设备捕获的,并且所述视差数据是基于对于所述两个参考图像和两个对应图像中的、以位置为基础的每一对参考图像和对应图像共同的多个特征点的位置,使用两个参考图像和两个对应图像计算得出的,所述两个对应图像是由处于所述两个位置的所述成像设备中的另一个成像设备捕获的;搜索对所述两个参考图像共同的多个特征点;基于与这两个参考图像中的各个特征点相关的视差数据,为每个搜索到的特征点计算视差及视差变化量;以及,基于计算出的视差及视差变化量,计算参数的修正值。

著录项

  • 公开/公告号CN102612634B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社理光;

    申请/专利号CN201180004520.4

  • 发明设计人 青木伸;

    申请日2011-08-25

  • 分类号G01C3/00(20060101);G01B11/00(20060101);G01C3/06(20060101);G06T1/00(20060101);H04N17/00(20060101);G08G1/09(20060101);G08G1/16(20060101);

  • 代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人曾贤伟;张瑛

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:20:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-23

    授权

    授权

  • 2012-09-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01C 3/00 申请日:20110825

    实质审查的生效

  • 2012-07-25

    公开

    公开

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