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公开/公告号CN101088030B
专利类型发明专利
公开/公告日2013-11-06
原文格式PDF
申请/专利权人 夏普株式会社;
申请/专利号CN200580041596.9
发明设计人 田口登喜生;植木俊;中村浩三;津田和彦;
申请日2005-12-01
分类号G02B1/11(20060101);B32B7/02(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人王岳;刘宗杰
地址 日本大阪府
入库时间 2022-08-23 09:16:09
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-11-06
授权
2008-02-06
实质审查的生效
2007-12-12
公开
机译: 抗反射材料,压模,使用该制造方法制造抗反射材料的方法以及压模
机译: 抗反射部件,光学元件,显示装置,制造压模的方法以及使用该压模制造抗反射部件的方法
机译: 使用压模的防反射材料的制造方法,压模的防反射材料的制造方法,光学元件以及显示装置
机译:通过该方法,阳极氧化多孔氧化铝,制造为模板,抗反射制品和防水材料制造的阳极氧化多孔氧化铝,装置,阳极氧化多孔氧化铝的制造方法,阳极氧化多孔氧化铝,模塑体
机译:阳极氧化多孔氧化铝的制造方法和设备,通过该方法生产的阳极氧化多孔氧化铝,以阳极氧化多孔氧化铝为模板制造的成型体,抗反射物品和疏水材料。
机译:用于制造球形,椭圆形和其他圆顶形底部的压模及其使用方法
机译:图案尺寸,双侧图案化和压印材料的影响使用纳米压印制造抗反射结构的抗反射结构
机译:研究了低成本制造碳环氧复合材料和使用真空辅助树脂传递模塑(VARTM)方法的新型“无模”技术。
机译:体外比较比较不同类型的压模托盘和压模材料对开放式托盘植入物压模精度的影响:一项先导研究
机译:一种使用单阶段自我掩模方法在透射光栅表面上的抗反射纳米结构的制造
机译:标准参考材料:抗反射 - 铬线宽标准sRm473,用于校准光学显微镜线宽测量系统