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用于形成精细图案的光掩模及使用该光掩模形成精细图案的方法

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摘要

提供一种具有主图案和包含在主图案中的辅图案的光掩模。该光掩模使得甚至用具有相对较大尺寸的光掩模也可容易地形成精细图案。

1. 用于形成精细图案的光掩模及使用该光掩模形成精细图案的方法 [P] . 中国专利： CN102103325B . 2013.06.19
2. 光掩模、包括光掩模的层压体、光掩模制备方法、图案形成装置和图案形成方法 [P] . 中国专利： CN107710072B . 2020.12.15
3. PHOTOMASK LAMINATE COMPRISING THE PHOTOMASK METHOD FOR MANUFACTURING THE PHOTOMASK DEVICE FOR FORMING PATTERN USING THE PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE PHOTOMASK [P] . 韩国专利： KR102080963B1 . 2020-02-24

机译：包含用于制造使用该图像形成图案的光掩模装置的光掩模方法和使用该光掩模形成图案的方法的光掩模层合物
4. PHOTOMASK LAMINATE COMPRISING THE PHOTOMASK METHOD FOR MANUFACTURING THE PHOTOMASK DEVICE FOR FORMING PATTERN USING THE PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE PHOTOMASK [P] . 韩国专利： KR20170013844A . 2017-02-07

机译：包含用于制造使用图像形成图案的光掩模装置的光掩模方法和使用该光掩模形成图案的方法的光掩模层合物
5. Photomask, laminate including the photomask, method for manufacturing the photomask, pattern forming apparatus using the photomask, and pattern forming method using the photomask [P] . 日本专利： JP6458971B2 . 2019-01-30

机译：光掩模，包括该光掩模的层压体，该光掩模的制造方法，使用该光掩模的图案形成装置以及使用该光掩模的图案形成方法