公开/公告号CN115502048A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-12-23
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州苏纳光电有限公司;
申请/专利号CN202211270221.1
发明设计人 刘林韬;
申请日2022-10-17
分类号B05C11/08;B05D1/00;
代理机构南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人王锋
地址 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区1幢101、102室
入库时间 2023-06-19 18:04:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-23
公开
发明专利申请公布
机译: 光刻胶成分[光刻胶成分]通过使用具有特定结构的叠氮化物光敏化合物,具有较高的残留膜速率和较高的分辨率,可以改善图案的均匀性
机译: 磁共振波谱仪装置的有源匀场系统和用于提高磁场均匀性的磁共振成像装置以及使用该系统的有源匀场方法
机译: 用于改善磁共振成像装置中的磁场均匀性的匀场装置和方法