退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN115443352A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-12-06
原文格式PDF
申请/专利权人 学校法人关西学院;东洋铝株式会社;丰田通商株式会社;
申请/专利号CN202180028128.7
发明设计人 金子忠昭;堂岛大地;松原萌子;西尾佳高;
申请日2021-03-30
分类号C30B29/38;C30B23/06;
代理机构北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人方挺;侯晓艳
地址 日本国兵库县
入库时间 2023-06-19 17:51:41
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-06
公开
国际专利申请公布
机译: 在锗层上具有氮氧化铝膜的半导体结构及其制造方法
机译: 半导体结构及其制造方法包括在锗层上的氮氧化铝膜
机译:散热基板用氮化铝的表面氧化物层形成:具有应力缓和区域的氧化铝层的氮化铝烧结体的制造方法和性能
机译:1,4-二氮杂-1-烯和4-LITHIO-1,4-二氮杂-1-烯的氢化发光-氢化铝LUM,氢化铝L和氢化铝DI络合物的合成
机译:桶渗氮和等离子体渗氮双重涂层形成的氮化铝层的力学性能。
机译:使用稀有气体稀释的氮等离子体制造氮化铝阻挡层SIS混合器设备
机译:层状,氮掺杂的氧化ha和氧化铝薄膜的开发和特性,可用作宽温度电容器电介质。
机译:六甲基二硅氮烷改性纳米多孔氧化铝的超疏水表面的制备与表征
机译:氧化铝氮等离子体射流的反应形成氮化铝
机译:加氢脱氮的机理。第2部分,二氧化硅 - 氧化铝上的piperdine脱氮。