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公开/公告号CN115297951A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-04
原文格式PDF
申请/专利权人 三菱电机株式会社;
申请/专利号CN202080098628.3
发明设计人 林佳史;今村英二;野田清治;
申请日2020-03-24
分类号B01D65/06;C02F3/12;C02F1/44;
代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司;
代理人严鹏
地址 日本东京
入库时间 2023-06-19 17:27:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-04
公开
国际专利申请公布
机译: 膜分离装置的分离膜的清洗方法,化学清洗方法以及分离膜的清洗系统
机译: 膜分离活性污泥系统及膜清洗装置
机译: 膜分离活性污泥处理装置及其膜表面清洗方法
机译:膜分离活性污泥法(MBR)处理系统:使用浸没平膜的膜分离活性污泥法(MBR)处理系统
机译:膜分离活性污泥法(MBR)处理系统:使用浸渍扁平膜的膜分离活性污泥法(MBR)处理系统
机译:下一代半导体清洗技术的挑战和前景Si /氧化膜损失/结构无损伤的单晶片旋转清洗旨在通过超临界流体清洗和局部清洗来减少环境负荷
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机译:溶解二氧化碳对RO膜清洗的影响
机译:基于酶的红酒生产电渗析系统阳离子交换膜清洗的初步研究
机译:表番茄选矿装置清洗阶段水流量的自动控制新鲜市场番茄包装装置清洗步骤中水系统的自动控制
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