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一种用于快恢复二极管的金属颗粒腐蚀液及金属腐蚀方法

摘要

本发明公开了快恢复二极管技术领域内的一种用于快恢复二极管的金属颗粒腐蚀液及金属腐蚀方法。该金属腐蚀方法,依次包括以下步骤:将光刻后的晶片放置于酸洗花篮中,按常规方式进行初步金属腐蚀处理;将初步金属腐蚀处理后的晶片,浸泡于金属颗粒腐蚀液中,金属颗粒腐蚀液温度为18‑22℃,浸泡时间为50‑70s,浸泡期间持续抖动酸洗花篮,完成二次腐蚀;将二次腐蚀处理后的晶片,冲水、甩干处理后,放置于恒定环境中干燥。该金属腐蚀方法在常规腐蚀的基础上进行二次腐蚀,通过特制的金属颗粒腐蚀液有效的解决了腐蚀后制品表面金属颗粒残留问题,保证制品不会因为金属颗粒问题导致的漏电突变现象。

著录项

  • 公开/公告号CN115261863A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-11-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 扬州国宇电子有限公司;

    申请/专利号CN202210923562.8

  • 发明设计人 潘东辉;徐林;李俊;王斌;

    申请日2022-08-02

  • 分类号C23F1/30;C23F1/26;C23F1/20;C23F1/28;H01L21/67;H01L29/868;

  • 代理机构南京源点知识产权代理有限公司;

  • 代理人罗超

  • 地址 225000 江苏省扬州市吴州东路188号

  • 入库时间 2023-06-19 17:20:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-01

    公开

    发明专利申请公布

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