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杂散光测量装置及其测量方法、杂散光测量系统

摘要

本发明提供的一种杂散光测量装置及其测量方法、杂散光测量系统,其通过在工件台上设置第二传感器和反射率大于第二传感器但感光面面积小于第二传感器的第一传感器,并在掩模台上设置周围具有透光区的第一标记和第二标记,其中,测量光照射在第一标记上形成第一暗斑,照射在第二标记上形成第二暗斑。并通过剔除用第一传感器测量第一暗斑光强时额外引入的反射光,相应的能够精准的获得形成第一暗斑的杂散光在测量光中的光强占比,提升了对杂散光测量的精准性。

著录项

  • 公开/公告号CN115268219A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-11-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备(集团)股份有限公司;

    申请/专利号CN202110474347.X

  • 发明设计人 牛钧杰;

    申请日2021-04-29

  • 分类号G03F7/20;

  • 代理机构上海思捷知识产权代理有限公司;

  • 代理人郑星

  • 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号

  • 入库时间 2023-06-19 17:20:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-01

    公开

    发明专利申请公布

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