一种简易型原子层沉积设备的沉积方法

摘要

本发明公开了一种简易型原子层沉积设备，包括反应腔体，反应腔体包括上盖和加热腔，加热腔底部有圆形沟槽环绕，内置加热丝，加热腔上部是载盘，上盖输气结构经由特殊设计，与气路系统连通，前驱体源瓶和惰性气体经由气路系统连接口连通，载盘下方连通有抽气系统，同时还公开了利用此简易型原子层沉积设备进行ALD反应的沉积方法；本发明的优点是：便于在科研、教学中使用，避免交叉污染，能够简易清楚了解ALD反应过程，获得均匀高品质纳米薄膜。