黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵

摘要

本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物，由其能够形成相对于基板的密合性优异的黑矩阵。该黑矩阵用颜料分散组合物包含黑色着色剂、酞菁铜的磺化物和胺化合物，所述胺化合物是选自下列化合物(A)～(D)中的至少一种：(A)具有吡啶骨架的胺化合物；(B)具有苯胺骨架的胺化合物；(C)具有咔唑骨架的胺化合物；(D)具有碳原子数为8以上的直链烷基、碳原子总数为20以下的胺化合物。